XRP09140 アドバンスセット構成 |
ノギス |
03010-00 |
フィルムデベロッパー |
06696-20 |
フィルム固定 |
06696-30 |
ケーブルアダプタ
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07349-00 |
ベンチ |
08286-00 |
スライドベンチh=30mm |
08286-01 |
GM計数管 |
09005-00 |
KBr結晶 |
09056-01 |
ニッケルホイル付X線照準 |
09056-03 |
吸収端解析用ケミカルセット |
09056-04 |
LiF結晶 |
09056-05 |
X線照準1mm |
09057-01 |
X線照準2mm
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09057-02
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X線照準5mm |
09057-03 |
X線フィルムホルダー |
09057-08 |
ゴニオメータ |
09057-10 |
ベンチ |
09057-18 |
蛍光X線スクリーン |
09057-26 |
銅X線管 |
09057-50 |
タングステンX線管 |
09057-80 |
X線ユニット |
09057-99 |
NaCl単結晶3種類 |
09058-01 |
結晶ホルダー |
09058-02 |
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ジルコニウムホイル付X線照準 |
09058-03 |
回析X線の粉末用ホルダー |
09058-09 |
ラウエパターン用結晶ホルダー |
09058-11 |
100x100mm2フィルム 100枚 |
09058-23 |
X線ソフト |
14414-61 |
USBケーブル1.8M |
14608-00 |
塩化アンモニウム 250g |
30024-25 |
塩化カリウム 250g |
30098-25 |
銅ホイル 0.1mm 100g |
30117-10 |
銅粉末 100g |
30119-10 |
塩化ナトリウム 250g |
30155-25 |
硝酸銀結晶 15g |
30222-00 |
ワセリン 100g |
30238-10 |
臭化カリウム 100g |
30258-10 |
酸化鉛(IV) 250g |
31122-25 |
シリシウム(けい質)粉末 50g |
31155-05 |
99.7%モリブデン粉末 100g |
31767-10 |
99%ゲルマニウム粉末 10g |
31768-03 |
亜鉛粉末 100g |
31978-10 |
陶器製乳鉢 70ml |
32603-00 |
スチールスプーン |
33393-00 |
トレー(PP) 180X240mmx3 |
47481-00 |
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X線ユニット仕様 |
ゴニオメータ仕様 |
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寸法・質量
実験エリア
電 源
管電圧
管電流
漏洩X線量
操作環境
温度範囲
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:W682 x D 450 H620mm、約55kg
:W440 x D354 x H345mm
:AC100V/2A又は200V/1A 50/60Hz
:0.0~35kV
:0.0~1.0A
:1μSv/hr以下
:+5℃から+40℃
:70%未満
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角度ステップ
速度
測定範囲
計測管測定範囲
PC(別売)環境
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:0.1~10°
:0.5~100.0s/ステップ
:0~360°
:-30°~+170°
:Pentium 3 プロセッサ以上
512 MB RAM,
1GB以上の空, DVDドライブ,
USB 2.0
Microsoft ®Windows XP 以上
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タングステン(W)X線管の特性実験状況(ゴニオメータ、GM計測管、LiF結晶設置) ※PCは含まれておりません
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アドバンスセットの主な実験内容 |
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実験0010
ガイガー・ミュラーカウンターチューブ(GM計数管)の特性
タングステン(W)ターゲットのX線管から放射されるX線をGM計数管で計測すると共に、GMカウンターチューブの電圧を変化させながら、陰極と陽極の間に流れるパルス電流の回数を計測します。
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実験0020
物質のX線透視画像
タングステン(W)ターゲットのX線管から発生した1次X線を利用して、試料の透視画像を蛍光スクリーンに映し出します。
X線管の陽極電流と電圧を変化させながら透視画像の変化を観察します。
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実験0010 X線透視参考画像
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実験0030
X線照射による放射エネルギー(色)の観察
タングステン(W)ターゲットのX線管から発生する1次X線を異なる厚さと種類を持つ試料(プレキシガラス、アルミ、鉄等)に照射し、X線吸収の違いを蛍光スクリーンで観察します。
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実験0030 X線吸収参考画像
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実験0101, 2801
タングステン(W)、銅(Cu)ターゲットX線管の特性
各種ターゲットのX線管から発生した1次X線を、単結晶(LiF又はKBr)に角度を変えながら入射します。ブラッグ条件を満たした蛍光X線の強さ(GMカウンター)と角度θを計測し、X線スペクトルを記録します。これは、分子構造を決定するための単結晶X線回析で、記録されたX線スペクトルからタ各種ターゲット(W,
Cu)X線管の特性を分析します。
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実験0101 銅ターゲットX線の強さ(LiF単結晶フィルタ)
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実験0401
X線管陽極の電流と電圧変化がX線に及ぼす影響
銅(Cu)ターゲットのX線管から発生した1次X線を、LiF単結晶に角度を変えながら入射します。ブラッグ条件を満たした蛍光X線の強さ(GMカウンター)と角度θを計測し、X線スペクトルを記録します。
X線管陽極の電流/電圧の変化がKα、Kβ線に及ぼす影響を計測します。
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実験0401 陽極電流の変化とKα、Kβ線の強さ参考図
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実験0601
銅(Cu)ターゲットX線の単色化(フィルタ法)
銅(Cu)ターゲットのX線管から発生した1次X線を、単結晶(LiF又はKBr)を使用して、ブラック条件を満たした特性X線スペクトルを解析すると共に、ジルコニウム箔(フィルター)を用いて単一波長のX線(単色X線)を使用した特性X線スペクトルを分析します。X線管で発生する1次X線は多色ですが、多数の実験(例えば結晶構造に関するデバイ-シェラー実験等)は単色X線を必要とします。単結晶や金属箔を用いてX線をフィルタに通すことで単色X線を発生することができます。
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実験0901
デュエン・ハントの法則とプランク定数
銅(Cu)ターゲットX線管とLiF単結晶を使用して、さまざまな陽極電圧における特性X線スペクトルを分析します。
陽極の電圧変化によって制動放射されるX線の最短波長を測定します。
X線の最短波長λminは、デュエン・ハントの法則を確認し、プランク定数を決定します。
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実験1201
K吸収端とL吸収端の解析とリュードベリ定数の決定
銅(Cu)ターゲットX線管からの1次X線をサンプルに照射し、各種サンプルのK吸収端、L吸収端をLiF単結晶LiFを使用して分析します。K吸収端、L吸収端のエネルギー値に基づいて、リュードベリ定数を導き出します。
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実験1301
NaCL単結晶構造の解析
銅(Cu)ターゲットのX線管から発生した1次X線を、NaCl単結晶(格子面100/110/111)に角度を変えながら入射します。ブラック条件を満たした特性X線スペクからNaClの構造を分析します。
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実験1301 NaCl結晶構造 青:Cl 緑:Na
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実験1401
デバイシェラー法による立方晶構造解析
粉末多結晶(NaCl、CsCl)に銅(Cu)ターゲットのX線管から発生した多色X線を照射し、ブラッグの条件を満たした同心円状の回折像(デバイ-シェラー環)をフィルムに記録します。回析像を解析して結晶内部の原子配列を決定します。
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実験1401 NaCl粉末試料のデバイシェラーパターン
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実験1501
デバイシェラー法による六法晶構造解析
粉末多結晶(ジルコニウム箔)に銅(Cu)ターゲットのX線管から発生した多色X線を照射し、ブラッグの条件を満たした同心円状の回折像(デバイ-シェラー環)をフィルムに記録します。回析像を解析して結晶内部の原子配列を決定します。
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実験1601
ラウエ法による単結晶の構造解析
タングステン(W)ターゲットのX線管から発生する多色X線をLiF単結晶に照射し、回析X線をポラロイドフィルムに記録します。その回析パターンから得られた干渉図形を基に構造解析行います。
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実験1601 LiF(100)結晶のラウエパターン
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実験2101
ブラベー格子(立方晶)を持った粉末結晶のデバイシェラーパターン回析
ブラベー格子(立方晶)粉末多結晶(単純・体心・面心立法)に銅(Cu)ターゲットのX線管から発生したX線を照射します。旋回するGMカウンターチューブは、結晶格子面からX線を検出し、ブラッグ図が自動的に記録されます。この結果から格子定数を割出し、単位格子中の原子の数を決定します。(NH4Cl,
KCl, KBr, Mo)
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実験2101 KBrのブラッグ図 Cu-KαとCu-Kβ線
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実験2201
ダイアモンド構造(Ge、Si)を持った粉末結晶のデバイシェラーパターン回析
ダイアモンド構造を持った粉末多結晶(Ge、Si)に銅(Cu)ターゲットのX線管から発生したX線を照射します。旋回するGMカウンターチューブは、結晶格子面からX線を検出し、ブラッグ図が自動的に記録されます。この結果から格子定数を割出し、単位格子中の原子の数を決定します。
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実験2301
六角格子構造(亜鉛)を持った粉末結晶のデバイシェラーパターン回析
六角格子構造を持った亜鉛粉末多結晶に銅(Cu)ターゲットのX線管から発生したX線を照射します。旋回するGMカウンターチューブは、結晶格子面からX線を検出し、デバイシェラーパターンが自動的に記録されます。この結果から格子定数を割出し、単位格子中の原子の数を決定します
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実験2401
正方格子構造(二酸化鉛)を持った粉末結晶のデバイシェラーパターン回析
正方格子構造を持った二酸化鉛粉末多結晶に銅(Cu)ターゲットのX線管から発生したX線を照射します。旋回するGMカウンターチューブは、結晶格子面からX線を検出し、デバイシェラーパターンが自動的に記録されます。この結果から格子定数を割出し、単位格子中の原子の数を決定します。
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実験2501
立法粉末結晶のデバイシェラーパターン回析
立法粉末結晶NaClに銅(Cu)ターゲットのX線管から発生したX線を照射します。旋回するGMカウンターチューブは、結晶格子面からX線を検出し、ブラッグ図が自動的に記録されます。この結果から格子定数を割出し、単位格子中の原子の数を決定します。
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実験2601
面心立法格子構造を持った粉末多結晶使ったデバイシェラー反射強さの決定
面心立法格子構造を持った粉末多結晶(銅粉)に銅(Cu)ターゲットのX線管から発生したX線を照射します。旋回するGMカウンターチューブは、結晶格子面からX線を検出し、ブラッグ図が自動的に記録されます。測定された反射強さを理論値と比較すると共に、格子定数を割出し、単位格子中の原子の数を決定します。
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実験2701
デバイシェラー測定回析による銅板の検査
面心立法格子構造を持った粉末多結晶(銅粉)と薄い銅ロール板に銅(Cu)ターゲットのX線管から発生したX線を照射します。旋回するGMカウンターチューブは、結晶格子面からX線を検出し、ブラッグ図が自動的に記録されます。粉末結晶と対照的にロール板のスペクトル図からは結晶子の配列を解析します。
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